自動真空氣氛爐主要作用于物體的燒結，而在制品的燒結過程中可控氣氛爐能夠有效地提高制品的致密化程度從而獲得良好的性能制品。
適用于電子陶瓷與高溫結構陶瓷的燒結、玻璃的精密退火與微晶化、晶體的精密退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米材料的燒結、金屬零件淬火及一切需快速升溫工藝要求的熱處理，是科研單位、高等院校、工礦企業(yè)理想的實驗和生產設備。
自動真空氣氛爐基本要求：
1、氣氛爐必須保證爐子密封性，爐殼采用連續(xù)焊縫，爐門和門框接觸面進行機加工，所有孔洞都有密封裝置，設有前室和后室，火簾和防爆裝置。
2、設備爐內氣氛要均勻分布，裝設循環(huán)風扇。
3、爐襯，要求爐襯材料具有抗還原、抗?jié)B碳能力，爐襯厚度要比一般電阻爐為厚，原因是設備爐氣導熱率比空氣大
4、溫度控制系統(tǒng)采用人工智能調節(jié)技術，具有PID調節(jié)、模糊控制、自整定能力并可編制各種升溫程序等功能。
5、本設備可以通氫氣、氬氣、氮氣等其他氣體，使高溫加熱工件不會產生氧化脫碳，并能預抽真空，真氛壓力可以達0.1Mpa，爐體采用厚鋼板加工而成，安全可靠，符合國家標準。
自動真空氣氛爐滿足于不同工藝實驗而特殊制造，適用于電子陶瓷與高溫結構陶瓷的燒結、玻璃的精密退火與微晶化、晶體的精密退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米材料的燒結、金屬零件淬火及一切需快速升溫工藝要求的熱處理。
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